미국AI × 패션AI 디자인 · 생성다가오는
더 패션 테크 쇼 뉴욕 2026 (PI Apparel)
The Fashion Tech Show New York 2026 (PI Apparel)
옛 PI Apparel이 리브랜딩한 패션 테크 콘퍼런스로, 2026년 7월 28~29일 뉴욕 센터415에서 열린다. 'AI After the Hype(과대광고 이후의 AI)'를 핵심 테마로 디지털 제품 생성(DPC)과 AI의 실제 가치·규모화·규제 책임을 다룬다. H&M·언더아머·센트릭브랜즈·URBN 등 12명의 연사가 참여한다.
연령 · 성별
섭외 라인업
H&M· 참가 브랜드/연사Under Armour· 참가 브랜드/연사Centric Brands· 참가 브랜드/연사URBN· 참가 브랜드/연사London College of Fashion· 학계 연사
참가 예정
- 패션 브랜드 디지털·제품개발 임원
- DPC/3D 실무자
- AI 솔루션 기업
- 리테일 테크 종사자
진행 내용
AI 실용가치 키노트, DPC 실무 패널, 리더십·의사결정 세션, 규제·리스크·책임 토론, 브랜드 사례 발표, 네트워킹.
기획 아이디어
'과대광고 이후'를 내세워 AI가 실제로 가치를 내는 지점만 골라 다루는 실무 중심 구성이 강점. 대형 브랜드 실무자를 연사로 묶어 도입 사례의 신뢰도를 높였다.
※ 사실이 아니라, 이 이벤트를 참고한 기획 제안입니다.